E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)適用于所有液位測(cè)量和界面測(cè)量的基本應(yīng)用,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)有6部分組合成:電子腔外殼、過程連接(法蘭)、纜式探頭、探頭末端的配置快、桿式探頭、同軸探頭。物位計(jì)改善和提高了化工、石油及天然氣、制藥、能源、源水和污水、食品、散料處理、紙漿及造紙、造船和海上運(yùn)輸?shù)阮I(lǐng)域的過程效益。同時(shí)可提供適用于在危險(xiǎn)區(qū)域,衛(wèi)生型場(chǎng)合,過溢保護(hù)和其它特殊應(yīng)用場(chǎng)合使用的認(rèn)證證書。
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)優(yōu)點(diǎn):
1、 可靠的測(cè)量值,測(cè)量值不受介質(zhì)變化、溫度變化、氣體覆蓋或蒸汽的影響;
2、 適用性強(qiáng),內(nèi)置數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器;
3、 直觀的菜單引導(dǎo)式操作,多種語言可選
4、 便于集成到控制或資產(chǎn)管理系統(tǒng)中
5、 精確的測(cè)量和過程診斷,便于快速?zèng)Q策
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位Levelflex分為9個(gè)系列:FMP50、FMP51、FMP52、FMP53、FMP54、FMP55、FMP56、FMP57。
Levelflex FMP50適用于溫度、壓力或耐腐蝕性要求不高的測(cè)量場(chǎng)合,是儲(chǔ)罐以及公用設(shè)施等基本型應(yīng)用的最佳選擇。采用多回波追蹤創(chuàng)新技術(shù),為測(cè)量結(jié)果帶來高度可靠性,用于液體、漿料和泥漿的連續(xù)物位測(cè)量。
Levelflex FMP51適用于過程工業(yè)極端工況下的液位測(cè)量,如高溫、高壓等場(chǎng)合。硬件與軟件根據(jù)IEC 61508標(biāo)準(zhǔn)開發(fā),達(dá)到SIL3級(jí)別,主要用于液體、漿料和泥漿的連續(xù)物位測(cè)量以及界面測(cè)量。
Levelflex FMP52帶涂層的探桿,適用于腐蝕性液體測(cè)量,所有的接液部件均采用FDA認(rèn)證的材質(zhì),用于液體、漿料和泥漿的連續(xù)性物位測(cè)量,也用于界面測(cè)量。
Levelflex FMP53用于衛(wèi)生要求高的食品和生命科學(xué)行業(yè)的連續(xù)物位測(cè)量,符合ASME BPE和USP VI級(jí)的衛(wèi)生要求。FMP53不需要從過程中拆除,可在原位清洗,具有獨(dú)特的成本優(yōu)勢(shì)。
Levelflex FMP54特別適用于油氣、化工和電力等行業(yè)的高溫高壓測(cè)量場(chǎng)合。采用陶瓷-石墨密封的過程連接,能保證在高溫高壓場(chǎng)合的使用安全同時(shí),氣密饋通能提供更高的安全性。在高壓的帶氣相層的液位測(cè)量中,只有帶氣相補(bǔ)償技術(shù)的FMP54才能提供準(zhǔn)確可靠的測(cè)量結(jié)果。
Levelflex FMP55適用于界面測(cè)量,采用傳感器融合技術(shù),是全球首創(chuàng)的融合電容測(cè)量和導(dǎo)向雷達(dá)技術(shù)為一體的儀表。FMP55能確保在有乳劑層的工況下,連續(xù)穩(wěn)定的獲得液位和界面測(cè)量值。FMP55多參數(shù)儀表在界面測(cè)量領(lǐng)域,特別是石油天然氣、化工和石化行業(yè)成為新的標(biāo)桿產(chǎn)品。
Levelflex FMP56適用于固體散料物位測(cè)量的經(jīng)濟(jì)、高效的基本型儀表,即使在粉塵嚴(yán)重的狹窄貯倉或有障礙物的船艙,F(xiàn)MP56也能提供最穩(wěn)定的測(cè)量值。是用于粉狀、粒狀等固體散料連續(xù)物位測(cè)量。
Levelflex FMP57適用于固體散料物位測(cè)量,滿足最高測(cè)量要求,是高貯倉、高煤倉或堆場(chǎng)等測(cè)量場(chǎng)合的最佳選擇。FMP57提供長(zhǎng)達(dá)45米的纜式探桿,適合高貯倉的測(cè)量。
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)測(cè)量原理:
Levelflex是基于ToF原理(行程時(shí)間)工作的“俯視式”測(cè)量系統(tǒng)。測(cè)量參考點(diǎn)至介質(zhì)表面間的距 離。向探頭發(fā)射高頻脈沖信號(hào),信號(hào)沿探頭傳播。脈沖信號(hào)在介質(zhì)表面發(fā)生反射,反射信號(hào)被儀 表接收,并被轉(zhuǎn)換成物位信息。此測(cè)量方法即為TDR法(時(shí)域反射法)。
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)測(cè)量原理:
是依據(jù)時(shí)域反射原理(TDR)為基礎(chǔ)的雷達(dá)物位計(jì),雷達(dá)物位計(jì)的電磁脈沖以光速沿鋼纜或探棒傳播,當(dāng)遇到被測(cè)介質(zhì)表面時(shí),雷達(dá)物位計(jì)的部分脈沖被反射形成回波并沿相同路經(jīng)返回到脈沖發(fā)射裝置,發(fā)射裝置與被測(cè)介質(zhì)表面的距離同脈沖在其間的傳播時(shí)間成正比,經(jīng)計(jì)算得出液位高度。
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)界面測(cè)量:
高頻脈沖信號(hào)到達(dá)介質(zhì)表面,僅部分脈沖信號(hào)發(fā)生反射。上層介質(zhì)的介電常數(shù)DC1較小時(shí),未發(fā) 生反射的脈沖信號(hào)將沿探頭繼續(xù)向下傳播。在兩種介質(zhì)的界面處發(fā)生第二次反射(在下層介質(zhì)的介 電常數(shù)DC2大于上層介質(zhì)的介電常數(shù))?;谛谐虝r(shí)間原理可以確定儀表至界面間的距離。同時(shí), 還需要考慮脈沖信號(hào)在上層介質(zhì)中傳播的延遲時(shí)間。介質(zhì)的介電常數(shù)(DC)直接影響高頻脈沖信號(hào)的反射率。測(cè)量大介電常數(shù)(DC)的介質(zhì)時(shí)(例如:水和 氨水),脈沖反射信號(hào)強(qiáng);相反,測(cè)量小介電常數(shù)(DC)的介質(zhì)時(shí)(例如:碳?xì)浠衔?,脈沖反射信 號(hào)弱。
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)相關(guān)型號(hào):
PMP131-A2411A1G |
PMP131-A2101A1S |
PMP45-RE13P1J1ABF |
PMP41-RE23PBH11F1 |
RMS621-21AAA1211 |
RMA422-B22A11A |
RMA421-A21A2A |
RIA452-A111A21A |
RIA452-A111A11A |
RIA261-A22 |
E+H 導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)相關(guān)圖片: